希ガスは 周期表 の第 18 族に位置する 化学元素 であり、その安定性で知られています。これらの化学元素は、その電子配置によりすべての層が完全になっているため安定しています。つまり、 電子 を授受したり受け取る必要がないのです。このため、最終的に形成される 化合物は まれです。 他の化学元素と結合を形成できる希ガスは、3 層以上の希ガスのみです。これは、 オクテット を拡張し、最後の層 ( 価電子殻 ) により多くの電子を収容できる可能性があるためです。 ヘリウム (He) と ネオン (Ne) は 原子半径 が非常に小さいため、 イオン化エネルギーが 非常に大きいため、 フッ素 (F) でさえも結合できる化学元素はありません。 安定性に関しては、 希ガスによって形成される化合物は、 これらの元素が分離されたままであることを好むため、非常に不安定になる傾向があります。 希ガスとの化合物の例は次のとおりです。 アルゴン （Ar）：フッ化アルゴン（HArF）。二フッ化アルゴン（ArF 2 ）。 クリプトン （Ｋｒ）：フッ化クリプトン（ＫｒＦ ２ ）。 キセノン (Xe): 主なものは フッ化物 (XeF 2 、XeF 4 、XeF 6 ) です。 ラドン (Rn): 二フッ化ラドン (RnF 2 )。 これらの化合物の応用例はまだ多くありませんが、一例として Na 4 [XeO 6 ]・8H 2 O が挙げられます。これは難溶性であり、 ナトリウム の重量測定に使用できます。
